中国体彩山东11选5

MLL系列

發布日期:2016-1-8

緊湊型無掩膜直寫光刻設備

應用于IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、觸摸屏等加工

高精密定位工作平臺,可實現6英寸的基底尺寸(可擴展)

可實現0.6μm的亞微米線寬分辨率

配備高精度套刻和背面對準功能(可選配)

可接受客制化訂制

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